离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

目前常用等离子体激发频率有40kHz、13.56MHz和2.45GHz三种。

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等离子体激发频率区别：

激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，其发生的反应为物理反应；

激发频率为13.56MHz的等离子体为射频等离子体，其发生的反应既有物理反应又有化学反应；

激发频率为2.45GHz的等离子体为微波等离子体，其发生的反应为化学反应。

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等离子体激发频率运用：

激发频率为40kHz的等离子体即超声等离子体清洗是以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响较大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。而超声等离子则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果较为理想。典型的等离子体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。

激发频率为2.45GHz的等离子体即微波等离子体是典型的等离子体化学清洗工艺，是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。主要用于科研方面及实验室。

激发频率为13.56MHz的等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；

目前美国CIF公司所主要生产激发频率为40kHz和13.56MHz等离子清洗机，了解更多产品信息请参阅CIF官方网站：www.cif-china.com