• 紫外臭氧清洗机

    1. 生产厂家:美国Novascan公司
    2. 产品型号:PSD

    PSD系列紫外臭氧清洗机(UV-Ozone)通过操作简便的数字控制器进行控制,让您的工作变的很简单。灯管尺寸自 10x10cm至51x51cm不等。PSD系列紫外臭氧清洗机的特点就是强大...

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  • 实验室石墨电热板

    1. 生产厂家:CIF
    2. 产品型号:PH

    CIF恒温石墨电热板采用分体式和无金属附件设计理念,减少了酸蒸汽等对控制系统的腐蚀,保证了操作人员的安全和实验结果的准确性。...

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  • 程序降温仪

    1. 生产厂家:
    2. 产品型号:

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  • 液氮罐

    1. 生产厂家:
    2. 产品型号:

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  • 全自动化液氮存储系统

    1. 生产厂家:
    2. 产品型号:

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  • 全自动湿法处理系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX 1201

    CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统,配置cassette to cassette 或foup,,支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理,包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配...

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  • 大尺寸湿法处理系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX 760

    CHEMIXX 760系统是一款大尺寸湿法系统,支持最大样品达535X535mm(21寸方片),更大的样品尺寸可定制,一台系统可实现清洗、蚀刻 、显影 ,干燥整个工艺过程。...

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  • 湿法刻蚀专用系统

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX E 30Pm

    CHEMIXX E 30 湿法刻蚀系统专门用于掩膜版与晶圆的刻蚀与清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液体。...

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  • CMP后双面清洗机

    1. 生产厂家:德国Osiris
    2. 产品型号:CHEMIXX CMP 30pm

    CHEMIXX CMP 30pm是一款专门为晶圆双面清洗设计的系统,独立系统,占地面积小,非常适合有限的空间。具有4路化学液清洗,兆声清洗,双面PVA刷洗,去离子水冲洗等清洗模块,对晶圆有顶级的清洗能...

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