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英国Ossila紫外臭氧清洗机(UVO)

    英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机(UVO),是一种简单,经济,快速的材料表面清洗设备,只需把样品放置到样品盘上,关上舱门,设置时间,并按运行,就可以了,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面,只需要在传统清洗后,再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得! 目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。 表面UV光清洗:利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE,对有机物质所起的光敏氧化分解作用,以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物(碳氢化合物),获得超洁净的表面。 表面UV光改质:利用紫外光照射有机表面,在将有机物分解的同时,254nm波长的紫外光被物体表面吸收后,将表层的化学结构切断,光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合,并将之变换成具有高度亲水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),从而提高表面的浸润性。
  1. 详细信息

英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机(UVO),是一种简单,经济,快速的材料表面清洗设备,只需把样品放置到样品盘上,关上舱门,设置时间,并按运行,就可以了,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面,只需要在传统清洗后,再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得!
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
表面UV光清洗:利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE,对有机物质所起的光敏氧化分解作用,以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物(碳氢化合物),获得超洁净的表面。
表面UV光改质:利用紫外光照射有机表面,在将有机物分解的同时,254nm波长的紫外光被物体表面吸收后,将表层的化学结构切断,光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合,并将之变换成具有高度亲水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),从而提高表面的浸润性。
主要应用:
石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。
微电子产品的表面清洗:微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。
精密集成电路的表面清洗:液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。
在胶粘接或是印刷之前,对高分子聚合制品的表面改性:橡胶粘接,塑料汽车部件,透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。
科研过程的表面清洗及处理:半导体,生物芯片,纳米材料,聚合物,光化学等。

产品特点
成本低;
✲120x120mm样品台;
最大处理样品高14mm;
抽屉式样品台,简单方便;                                  
样品台自动安全开关,打开UV自动关闭,防止对人身伤害;     UVO显示器
LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”;
60分钟定时器;
高强度UV灯源;
可控温的样品台;
样品清洗无需溶剂;
超净表面。

      

技术参数

在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300纳米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。